中华商务网
正在更新
短信回放
您现在的位置: > 中商信息> 有色产业> 小金属> 市场动态> 其他

横店集团东磁申请无掩膜单次沉积硅层制备TBC太阳能电池专利

2024-10-30 8:31:20来源:网络作者:
  • 导读:
  • 2024年10月29日消息,国家知识产权局信息显示,横店集团东磁股份有限公司申请一项名为“一种无掩膜单次沉积硅层制备TBC太阳能电池的方法”的专利,公开号CN 118825141 A,申请日期为2024年9月。
  • 关键字:
  • 太阳能

2024年10月29日消息,国家知识产权局信息显示,横店集团东磁股份有限公司申请一项名为“一种无掩膜单次沉积硅层制备TBC太阳能电池的方法”的专利,公开号CN 118825141 A,申请日期为2024年9月。

专利摘要显示,本发明涉及太阳能电池领域,公开了一种无掩膜单次沉积硅层制备TBC太阳能电池的方法。首先,本发明通过优化工艺步骤,在不构建掩膜层的情况下实现了单次沉积本征多晶硅层制备TBC太阳能电池,可进一步简化制备步骤,并有效提升产品的性能和良品率,并同时显著降低生产成本。其次,本发明通过巧妙的差异化激光处理工艺,可制得具有凸形隔离区结构的TBC太阳能电池,不仅可减少p区和n区发生短路的概率,还可降低部分硼扩散层或磷扩散层厚度以减少寄生吸收影响。

(关键字:太阳能)

(责任编辑:01181)
每日聚焦
市场动态
最新供应
最新求购
【免责声明】
请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。
有色产业频道: 基本金属 | 小金属
中商数据-研究报告-供求商机-中商会议-中商VIP服务 | 钢铁产业-化工产业-有色产业-能源产业-冶金原料-农林建材-装备制造
战略合作 | 关于我们 | 联系我们 | 媒体报道 | 客户服务 | 诚聘英才 | 服务条款 | 广告服务 | 友情链接 | 网站地图
Copyright @ 2011 Chinaccm.cn, Inc. All Rights Reserved.中商信息版权所有 请勿转载
本站所载信息及数据仅供参考 据此操作 风险自负 京ICP证030535号  京公网安备 11010502038340号
地址: 北京市朝阳区惠河南街1091号中商联大厦 邮编:100124
客服热线:4009008281