国家知识产权局信息显示,武汉高芯科技有限公司申请一项名为“一种硫化锌/碲化镉复合钝化膜的开孔方法及碲镉汞器件”的专利,公开号CN 119836031 A,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,本发明涉及半导体材料加工制备技术领域,具体涉及一种硫化锌/碲化镉复合钝化膜的开孔方法及碲镉汞器件,包括如下步骤:S1、在器件的硫化锌/碲化镉复合钝化膜表面制作光刻胶开孔图形;S2、对硫化锌钝化膜进行腐蚀开孔;S3、在硫化锌钝化膜开孔的侧壁上覆盖保护层;S4、对碲化镉钝化膜进行腐蚀开孔;S5、去除所述保护层和所述光刻胶开孔图形。本发明在硫化锌钝化膜开孔之后、碲化镉钝化膜开孔之前,通过在硫化锌钝化膜开孔的侧壁上覆盖保护层,有效避免了后续碲化镉钝化膜腐蚀开孔时对硫化锌钝化膜开孔造成扩腐蚀,显著提高了硫化锌/碲化镉复合钝化膜开孔孔径的均匀性和精确度。
天眼查资料显示,武汉高芯科技有限公司,成立于2013年,位于武汉市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本33800万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉高芯科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目62次,财产线索方面有商标信息22条,专利信息366条,此外企业还拥有行政许可20个。
(关键字:碲化镉)